作者: 初欣运营网 发布时间:2022-12-04 18:07:23
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大家好,我是王 科技
任正非3天访问4所工科类大学;
中科院宣布入局光刻机;
南京成立国内第一所芯片大学;
2020年上半年,国内约20个地区开展半导体项目,合计规划超600亿;
自2014年6月到去年底,大概有50多个规模较大的芯片项目成立,按照各自规模规划的情况来看,单项目平均投资超300亿元,总资额超1.7万亿元。
国内造芯热情不断,看上去轰轰烈烈,但却频频爆出造芯项目烂尾,发展之下,难道是"虚假繁荣"?
或许老美也没有想到,本来是想制裁一下华为,让其成为第二个"中兴",奈何华为没有妥协,相反,国内迎来了"造芯"大潮,而且越来越多的企业加入进来。
根据相关媒体报道,今年上半年国内新增2.8万家集成电路相关企业,平均一天新增150家,看上去国内造芯轰轰烈烈,细看之下,这些企业也并非是全新的公司,而是一些成立多年的公司,再细看,也不是全部造芯,只是将业务更变了而已。
为什么这么做?在新Z策推动下,他们的市值会上升,不少人想趁机发一笔财,也只是将经营范围改成集成电路相关的范围,就能享受一部分Z策,这就是原因。
当然也不能以偏概全,这2.8万之中也有专心做芯片的,但跟那么浑水摸鱼的相比就显得"可怜",真正搞科研的拿不到投资,浑水摸鱼的却能获得巨资投入,造芯发展缓慢也就找到原因了。
除了一部分更改经营范围的企业,国内也被爆出不少千亿造芯项目烂尾,而且不止一处。
最为让人震惊的就是武汉弘芯项目, 起步就是14nm,随后就是7nm产业链也要建立,该项目预计投资1280亿,到了2019年共投资153亿,蒋尚义做掌门人(曾任职台积电CTO(首席技术官),张忠谋最器重科研大将之一),而且还有几十名台积电前员工加入,就是这样的配置,还是被爆出项目停止。
本以为崛起了,奈何被网友爆出拖欠4100万工程款,而且国内唯一一台7nm光刻机也被抵押出去了,文件显示的是"未拆封","全新,尚未使用"。
很多人知道国内有一台7nm光刻机,或许就是从这知道的。
然而武汉弘芯项目不是独家,还有南京德科码、德淮半导体等等。
有人会问,为什么会出现这样的情况?而就在近日发Gai委也对此事做出过回应,发言人孟玮回应说, 国内投资集成电路产业热情不断高涨,一些没经验没技术没人才的三无企业也加入其中,个别地方盲目上项目,低水平重复建设风险显现。
其实造芯项目是一个投资巨大的工程,不仅是资金投入,还有人才投入,时间成本,并不是一蹴而就。
除去那些浑水摸鱼或是资金链断开等问题,中国芯想要崛起,未来之路在哪?
其实从任正非和国家的一些举动也可以看得出来:人才投资。
任正非曾多次访问国内大学,中国芯的未来或许就在这一张张课桌一个个实验室中,而国内也在南京成立第一所芯片大学,抛去其他课程,以芯片为中心进行授课,这样的目的就更加明显。 而国家也是在今年将集成电路单独拿出来作为一级学科,种种事件表明,不管是市场竞争,还是造芯热情,其根本,就是人才。而这一点或许华为海思更有发言权:经历16年之久,前后2万人才投入,才打造出华为王牌麒麟芯片。
老话说是骡子是马拉出来遛遛,大浪淘沙下,势必会沉淀出优秀的企业,而这些企业或许才是中国芯发展路上的主力!
表面繁荣,浑水摸鱼终会被揭开,而扎根基础,坚持下来的也将会做出成绩!
期待这一天早日到来!加油,中国芯!
第一,目前全球最先进的光刻机,已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。
而ASML也不是自己一家就能够完成,而是国际合作才能实现的。其中,制造光源的设备来自美国公司;镜片,则是来源于德国的蔡司公司等。这也是全球技术的综合作用。
第二,中国进口最先进的光刻机,是7nm。
2018年,中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机,当时预交了1.2亿美元的定金。请注意,当时这台机器还没有交付,而是下订单。
但国内市场上,其实已经有7nm光刻机。在2018年12月,SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。
第三,目前国产最先进的光刻机,应该是22nm。
根据媒体报道,在2018年11月29日,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米。
请注意该报道的标题:“重大突破,国产22纳米光刻机通过验收。”
也就是22nm的光刻机,已经是重大突破。
22nm的光刻机,关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备,打破了传统路线格局,形成一条全新的纳米光学光刻技术路线,具有完全自主知识产权。”
有关报道中的“全新的技术”,也就是中国科研工作者在关键部件完全国产化情况下,实现的这一次技术突破
中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。
华为麒麟受制于人,中芯国际不堪大用,澎湃芯片久不见进展,虎愤芯片勉强能用。
实用更是有很远的路要走。
大家放平心态。
不过可惜的是,就在近日,这个投资千亿的半导体项目迎来了最终落幕,不仅发出通知遣散所有员工,还要求全体员工必须在3月5日前完成办理离职手续。
当然,最可惜的还是那台完全未拆封,被抵押给银行的大陆唯一一台7nm高端光刻机!
其次,从人员上来说,弘芯半导体也是兵强马壮。
据悉,武汉弘芯半导体项目的技术总负责人乃是芯片界的大牛蒋尚义。此人乃是台积电前CTO(首席技术官),在台积电任职时间长达10年,是张忠谋的左膀右臂。
更重要的是,根据公开信息显示, 台积电90纳米、65纳米、40纳米、28纳米、20纳米、6纳米等关键节点的研发都有蒋尚义的参与,得一蒋尚义胜过数百名芯片工程师。
然而现在呢?就在几个月前, 蒋尚义亲自证实在2021年1月1日正式加入中芯国际,并担任中芯国际副董事长一职。
由此还闹出了一场风波,梁孟松博士因蒋尚义突然空降,高调请辞,众网友大呼中芯国际“老糊涂”了。
按道理说兵强马壮的弘芯半导体项目怎么也能折腾出一点儿动静,怎么就突然烂尾了呢?1380亿的投资又都花到哪儿去了呢?
根据武汉《上半年东西湖区投资建设领域经济运行分析》文件披露,弘芯半导体项目的钱主要花在了以下两个方面。
1.人才投资。根据台媒消息, 武汉弘芯在2019年的时候便已经着手挖人,除去在6月份请来蒋尚义这么一位业内高人之外,年底的时候还联合山东泉芯开出高于台积电2.5倍的薪酬从台积电挖走了100多名资深工程师和半导体经理。
2.设备投资。设备方面, 除去一期生产线需要的300余套设备之外,更是通过各种关系引进了一台型号为TWINSCAN NXT:1980Di的高端光刻机 ,这种光刻机是大陆唯一一台可以生产7nm芯片的高端光刻机。当初该设备成功引进时,甚至还专门弄了一个声势浩大的进厂仪式( 如今已被抵押给了武汉农商行,估值58180.86万元 )。
3.厂房投资。据悉,仅是一期厂房投资就高达520亿, 主要生产厂房加研发大楼已经封顶或完成,总建筑面积高达39万平方米。 不过二期项目出了点问题, 由于一直没有完成土地调规和出让,以及缺少土地、环评等支撑材料,所以二期项目迟迟未能启动,以“烂尾”告终。
至此,负责人转投,高端设备抵押,二期工程“烂尾”,虽然武汉弘芯还没有完全解散,但是已经濒临彻底失败的边缘。
根据2月27日最新消息,武汉弘芯内部下达了一则正式通知,由于公司无复工复产计划,因此决定遣散所有员工,要求全体员工于2月28日下班前主动申请离职,并于3月5日前完成离职手续办理。即便是休假人员,也被要求线上办理。
值得注意的是,根据内部员工的透露,该消息的发出没有任何征兆,该员工所在的部门甚至还在为正式投产做准备。
此外还有一点需要注意, 按照通知中的说法,是要求全体员工自己主动提出离职申请,这是不是说明弘芯已经不打算支付遣散费用?还是说武汉弘芯的资金缺口已经到了连员工遣散费用都支付不起的地步了?
眼看他起高楼,眼看他宴宾客,眼看他楼塌了。
不管怎样,这个历时3年有余的弘芯半导体项目算是迎来了最终落幕,只是可惜了那一台能够制造出7nm芯片的高端光刻机了。
如果是其他项目或厂商拿到这台高端光刻机,是不是就可以实现14nm,7nm高端芯片量产呢?
最后还是要说一句, 像芯片半导体这种国之重器,还是掌握在可信的人和公司手里比较好。
国产光刻机任重道远。“即使你给图纸,你也做不出一个光刻机。”“就算全国都发展半导体制造,也很难成功。”ASML掌门人、TSMC创始人张忠谋在过去两三年里不止一次公开表示,中国大陆自己无法成功制造光刻机。实际上,严格来说,位于荷兰的ASML公司(ASML)是世界上唯一一家可以生产光刻机的公司,但它只是一家组装公司。大量核心技术来自美国,在ASML的供应链中也有中国公司,如傅晶科技和沃尔特天然气公司。实际上,在光刻机成品方面,上海微电子自2002年成立以来,一直牢牢扎根于低端光刻机市场,90nm及以下工艺的产品一直在稳步出货。公开数据显示,2018年上海微电子出货量约为50-60台,约占大陆市场的80%。所以,以上两人的论断要加上一个前提条件,那就是“先进制造工艺”的光刻机。我们常说的高级芯片是指生产工艺小于28nm的芯片,也就是2814753nm的工艺。这次上海微电子在光刻机举行首个2.5D/3D高级封装交付仪式,标志着中国首个2.5D/3D高级封装在光刻机正式交付给客户,但对于我们目前的卡顿芯片制造来说,只是暗夜中的烛光。“1”和“0”的故事虽然近年来“光刻机”屡见报端,但很少有人提到光刻机主要分为“前路、后路、面板”三类。卡脖子的是前路光刻机,这次上海微电子发布了光刻机。如果把芯片制造比作食品生产,前面的路就是“食品”本身,后面的路就是包装袋。面板制造属于平时想不起来的“调味品”,但它的缺失会直接打击消费者的味蕾,给数字生活调味,因为面板是C端用户最“触手可及”的。因为没有驱动芯片,无论是前端还是后端芯片,C端用户都很难对芯片性能有直观的体验。但是,无论包装和调味品对食品有多重要,如果没有“食品”本身,它的价值就是“0”。所以要想充分体现后通道和面板芯片的价值,首先要有性能优异的前通道芯片。在以前的光刻机制造中,其实光刻机并不是按照“NM”的个数来分类的,而是按照光源的波长来分为436nm光源的“g线光刻机”;具有365纳米光源的“I线掩模对准器”;具有248纳米光源的“KrF掩模对准器”;193nm深紫外光源的“DUV光刻机”;以及13.5nm极紫外光源的“EUV光刻机”,也是目前卡脖子的主打产品。目前上海微电子的产品技术已经触及ArF技术和相应的光刻胶。目前,国内公司如上海新阳、通成新材料、南大光电、景瑞股份有限公司等都已开展研发和生产。其中,南大光电旗下的ArF光刻胶已于2020年底顺利通过客户验证,是国内首个通过产品验证的国产光刻胶。
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